【武漢純水設(shè)備】核子級(jí)拋光混床超純水系統(tǒng)工藝流程

超純水廣泛應(yīng)用于電子芯片、醫(yī)藥生物、精細(xì)化工等其他行業(yè)，理論電阻率最高為18.25 MΩ·cm。 在EDI裝置后，通常配備拋光混床作為最終的精處理裝置，設(shè)計(jì)流速一般為40-60m/h。

這種拋光混床樹(shù)脂采用相對(duì)密度很接近的陰樹(shù)脂和陽(yáng)樹(shù)脂的混合物，由于無(wú)法將這種樹(shù)脂的陰、陽(yáng)樹(shù)脂分離，不能用酸堿再生。

反滲透+EDI +拋光混床的超純水系統(tǒng)工藝流程：

原水箱→原水泵→石英砂過(guò)濾器→活性碳過(guò)濾器→軟化器→保安過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透→中間水箱→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透系→純水箱→純水泵→TOC分解器→精密過(guò)濾器→EDI裝置→純水箱→純水泵→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)武漢反滲透純水設(shè)備武漢EDI超純水處理設(shè)備 武漢工業(yè)純水設(shè)備 武漢實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備 武漢純化水設(shè)備